スパッタリング法を用いたGa2O3ワイドギャップ半導体材料の作製 ワイドギャップ材料、特に酸化物半導体に興味を持って新規材料探索をおこなっており、近年は特にGa2O3に注力している。Ga2O3は、4.9 eVとバンドギャップが大きく、理論絶縁破壊電界が8 M... 一関工業高等専門学校 未来創造工学科 電気電子系 藤田実樹 スパッタリング 酸化物半導体 Ga2O3 パワー・ディスクリート ウェハ・物性 素材・材料・ウェハ加工 前工程